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MOCVD 又名:金屬有機化學氣相沉積系統(tǒng)

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金屬有機化學氣相沉積系統(tǒng)(MOCVD)是利用金屬有機化合物作為源物質(zhì)的一種化學氣相淀積(CVD)工藝。

MOCVD概述

  著眼點:選擇特殊的反應,來降低反應溫度。
  原料:金屬的烷基,芳基,氫基,乙酰丙酮基衍生物。
  MOCVD廣泛被關注與LED的興起有關。在藍光LED芯片的生長中,一般都是使用MOCVD作為生長工具。這是由藍光LED芯片的制作工藝特性決定的。
  以AIXTRON公司的MOCVD為例,主要是由反應室,傳送室,射頻源以及氣路部分構成。
  它是利用金屬有機源和參與反應的進程氣體在一個低壓高溫的反應室中進行淀積,以生長出具有復雜摻雜層的芯片。
  MOCVD設備昂貴,配套設施以及所需原材料也昂貴無比。確實是燒錢的機器。
  在出現(xiàn)MOCVD之前,MBE算是最厲害的燒錢機器,以前大家都叫MBE為Money Burn Equipment。現(xiàn)在應該讓給MOCVD了。
  世界上最大的兩家MOCVD生產(chǎn)商為德國的AIXTRON和美國的VEECO。AIXTRON收購了Thomas,VEECO收購了Emcore?,F(xiàn)在是這兩家獨大。日系的MOCVD一般只在日本本土占有市場。
 


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