5.3.1 概述

所屬欄目:電子衍襯

位錯(cuò)密度是研究材料形變過(guò)程和微觀(guān)結(jié)構(gòu)對(duì)力學(xué)性能影響的重要參數(shù)。測(cè)定位錯(cuò)密度的方法有二,一是X-射線(xiàn)方法,它是根據(jù)位錯(cuò)密度對(duì)X-射線(xiàn)展寬的函數(shù)關(guān)系建立起來(lái)的方法。它雖不能在測(cè)量時(shí)同時(shí)看到位錯(cuò),但它的結(jié)果反映了一定的 ......(本文共 488 字 )     [閱讀本文] >>


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