光學(xué)元件磁流變加工不確定度誤差工藝方法

摘要： 為減少磁流變拋光過(guò)程中誤差對(duì)加工精度的影響，實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件磁流變高精度加工，采用一種不確定度誤差工藝方法對(duì)加工中的誤差進(jìn)行抑制。通過(guò)對(duì)磁流變加工過(guò)程中的位置誤差和去除函數(shù)誤差進(jìn)行不確定度分析，在理論分析與實(shí)驗(yàn)分析的基礎(chǔ)上進(jìn)行驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)。由仿真與實(shí)驗(yàn)結(jié)果可知，加工中面形誤差與中頻誤差均存在3.5 nm的不確定度誤差值，通過(guò)驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)，得到了加工后的面形誤差RMS值為20 nm，中頻誤差...