熔石英元件磁性復(fù)合流體拋光去除特性研究

摘要： 基于磁性復(fù)合流體(Magnetic Compound Fluid,MCF)拋光技術(shù)開展了熔石英元件拋光工藝研究，對比了傳統(tǒng)MCF和超聲輔助MCF(以下簡稱UMCF)拋光對熔石英材料去除特性的影響，探究了不同拋光時間下MCF和UMCF拋光對熔石英材料去除量/去除率和表面粗糙度的影響，并構(gòu)建了與拋光應(yīng)力和拋光時間有關(guān)的材料去除率模型。研究結(jié)果表明，相較于傳統(tǒng)MCF,UMCF在提高材...