集成電路裝備光刻機(jī)發(fā)展前沿與未來挑戰(zhàn)

摘要： 光刻機(jī)是集成電路制造中最為核心的高端裝備,在60余年的發(fā)展歷程中不斷挑戰(zhàn)人類超精密制造裝備的極限,推動(dòng)著摩爾定律的持續(xù)向前和信息時(shí)代的飛速發(fā)展,對(duì)于科技進(jìn)步、國民經(jīng)濟(jì)、國家安全具有極為重要的戰(zhàn)略意義.本文闡述了光刻機(jī)在集成電路制造裝備中的核心地位,介紹了光刻的基本原理,梳理了國際上光刻機(jī)從20世紀(jì)60年代至今的發(fā)展脈絡(luò),圍繞光刻機(jī)三大核心部件分析了光刻機(jī)中的關(guān)鍵技術(shù)及面臨的極限... （共14頁）