雙光束超分辨光刻技術(shù)的發(fā)展和未來(lái)

摘要： 近年來(lái)，隨著芯片制造工藝的不斷提高，光刻技術(shù)發(fā)展面臨著一些難題，這些難題也影響著芯片行業(yè)發(fā)展及摩爾定律的持續(xù)性。然而，當(dāng)前主流的極紫外光刻技術(shù)已經(jīng)接近制造極限，需要更先進(jìn)的技術(shù)來(lái)突破技術(shù)瓶頸。綜述了基于雙光束超分辨技術(shù)的光刻技術(shù)概念，并分析了其優(yōu)勢(shì)和潛力，同時(shí)提出了該技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)和可能的解決方案，指出這種新型光刻技術(shù)有望在微納制造領(lǐng)域扮演重要的角色。 （共8頁(yè)）