磁頭磁盤(pán)表面Zdol潤(rùn)滑劑轉(zhuǎn)移機(jī)理研究
科技導(dǎo)報(bào)
頁(yè)數(shù)： 6 2024-06-13
摘要： 采用粗粒化分子動(dòng)力學(xué)模型研究磁頭飛行高度、磁盤(pán)速度、頭盤(pán)界面壓強(qiáng)差和潤(rùn)滑劑厚度對(duì)Zdol潤(rùn)滑劑轉(zhuǎn)移的影響。結(jié)果表明，隨著磁頭飛行高度的增加，潤(rùn)滑劑轉(zhuǎn)移量呈先增加后急速增加的趨勢(shì)；潤(rùn)滑劑轉(zhuǎn)移量隨磁盤(pán)速度的增加而增加，與低飛行高度相比，高飛行高度下磁盤(pán)速度對(duì)潤(rùn)滑劑轉(zhuǎn)移量的影響更劇烈；潤(rùn)滑劑轉(zhuǎn)移量隨頭盤(pán)界面壓強(qiáng)差的增大而增大，與低飛行高度為相比，高飛行高度下頭盤(pán)界面壓強(qiáng)差對(duì)潤(rùn)滑劑轉(zhuǎn)移... （共6頁(yè)）
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