分子束外延設備國內外進展及展望

摘要： 分子束外延(MBE)設備具有超高真空、超高精度、超高均勻性薄膜沉積等特點，是化合物半導體材料、器件制造的核心工藝裝備，被廣泛用于固態(tài)微波射頻器件、半導體激光器、探測器等外延薄膜制備。本文在簡要介紹MBE設備及技術特點的基礎上，首先詳細闡述了Riber、Veeco、DCA等國際知名廠商的MBE設備發(fā)展歷程及產品現(xiàn)狀；接著對中國電科48所(CETC48)、沈陽科儀(SKY)、費勉儀... （共10頁）