機(jī)器人拋光M-ZnS去除函數(shù)建模與工藝參數(shù)優(yōu)化

摘要： 為研究M-ZnS在機(jī)器人拋光過程中的材料去除模型和優(yōu)化參數(shù)組合，探究M-ZnS光學(xué)元件的高精度、低成本、批量化制造方案，采用有限元法和數(shù)值仿真法，對(duì)M-ZnS的機(jī)器人拋光材料去除函數(shù)模型進(jìn)行修正。基于有限元法建立了拋光盤的壓力分布模型，采用曲線擬合方法得到了壓力分布函數(shù)。仿真模型和實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)對(duì)比表明，去除函數(shù)模型與實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)中心相對(duì)偏差小于8%，證實(shí)了修正去除函數(shù)模型的有效性。然后...