陣列式鈮酸鋰電光調(diào)制器偏置點控制技術研究（特邀）

摘要： 受材料自身特性的影響，電光調(diào)制器的偏置工作點會隨環(huán)境改變發(fā)生漂移，從而影響調(diào)制器的調(diào)制效果。針對鈮酸鋰馬赫-曾德爾電光調(diào)制器偏置點漂移的問題，研究適用于四陣列平行式電光調(diào)制器偏置點控制技術，提出了一種結(jié)合光功率和擾動信號幅值檢測的控制方法，采用時分復用、增益幅值可調(diào)、雙模式識別等方法有效減少了硬件冗余，實現(xiàn)了對偏置工作點的精確控制。