平面光學(xué)元件超平整吸附裝載的優(yōu)化設(shè)計與分析

摘要： 在平面光學(xué)元件加工和應(yīng)用中，采用真空吸附方式進(jìn)行裝載，具有快速、穩(wěn)定的優(yōu)勢，而真空吸附對平面光學(xué)元件的面形影響不可忽視?；谟邢拊治龇椒?，針對功能窗口限制、倒立裝載等特殊需求，對真空吸盤氣道進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計，并通過實驗對真空吸盤的實際效果進(jìn)行分析。實驗結(jié)果表明，在吸盤不鎖緊狀態(tài)下吸附，平面光學(xué)元件在中心Ф10 mm、Ф20 mm和Ф40 mm范圍內(nèi)，面形PV分別為1.2 nm、5... （共8頁）