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2.4.1 氣相沉積
模具工程師手冊

2.4.1 氣相沉積圖片（共3張） :
2.4.1 氣相沉積

        1.化學氣相沉積(CVD)化學氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)是利用空間氣相反應(yīng)在基材表面上沉積固態(tài)薄膜的工藝技術(shù)。化學氣相沉積可根據(jù)氣相反應(yīng)的激發(fā)方式不同分為:熱化學氣相沉積(TCVD)、放電激發(fā)氣相沉積(如等離子體PACVD)、輻射    （共 3174 字）     [閱讀本文] >>

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